技術

合金襯底表面的(de)凈化和脫鈷(gu)處理

   然后用酸(suan)處理深(shen)層的(de)(de)鈷(gu)來提高金(jin)剛石(shi)沉(chen)積質量和附著力 CVD的(de)(de)方法在合金(jin)基(ji)底上再次沉(chen)積金(jin)剛石(shi)膜(mo)，通過對金(jin)剛石(shi)表(biao)面(mian)進行(xing)拋光(guang)來獲(huo)得(de)較低的(de)(de)表(biao)面(mian)粗糙度(du)，利用電弧(hu)離子鍍設備，在電極(ji)和陰極(ji)金(jin)屬靶(ba)材之間引發電弧(hu)放電，然后在電弧(hu)離子鍍設備中對金(jin)剛石(shi)涂層施加負偏(pian)壓(ya)，金(jin)剛石(shi)膜(mo)表(biao)面(mian)將會受到金(jin)屬離子轟擊，細(xi)化表(biao)面(mian)晶粒以(yi)使得(de)表(biao)面(mian)光(guang)滑降低粗糙度(du)。

涂層附著力(li)好且(qie)抗氧化性強

   通過(guo)(guo)對金(jin)剛(gang)石(shi)(shi)涂層(ceng)(ceng)鉆(zhan)頭的(de)(de)結構進(jin)行(xing)(xing)優化(hua)(hua)即改變刀(dao)具(ju)(ju)刃口(kou)形狀和膜的(de)(de)厚度(du)，或者通過(guo)(guo)提高(gao)(gao)金(jin)剛(gang)石(shi)(shi)涂層(ceng)(ceng)的(de)(de)韌性來提高(gao)(gao)附著力，通過(guo)(guo)測試，發現(xian)其金(jin)剛(gang)石(shi)(shi)涂層(ceng)(ceng)鉆(zhan)頭對硅鋁(lv)合金(jin)具(ju)(ju)有(you)*的(de)(de)加(jia)工效率(lv)(lv)，下圖所示(shi)。由于(yu)金(jin)剛(gang)石(shi)(shi)在高(gao)(gao)溫(wen)下加(jia)工鐵(tie)系材料(liao)和耐(nai)熱(re)材料(liao)（鈦(tai)合金(jin)）會被(bei)氧化(hua)(hua)而降低其切(qie)割效率(lv)(lv)和應用領域，通過(guo)(guo)對涂層(ceng)(ceng)結構進(jin)行(xing)(xing)改進(jin)，*先在鉆(zhan)頭上進(jin)行(xing)(xing)摻硼金(jin)剛(gang)石(shi)(shi)膜的(de)(de)沉積，然后再(zai)利用PVD法鍍一層(ceng)(ceng)金(jin)屬互化(hua)(hua)物（如TiAlN等），在保證(zheng)金(jin)剛(gang)石(shi)(shi)加(jia)工強度(du)的(de)(de)前提下，有(you)效的(de)(de)提高(gao)(gao)了刀(dao)具(ju)(ju)的(de)(de)抗氧化(hua)(hua)性能(neng)，延(yan)長了刀(dao)具(ju)(ju)的(de)(de)壽命和應用領域。

具有光滑表面的微結晶

   拋光技術用于金剛石(shi)表(biao)面(mian)晶(jing)粒的細化通(tong)常能(neng)夠(gou)獲(huo)得光滑的表(biao)面(mian)，但是(shi)對(dui)于幾何形狀復(fu)雜的刀(dao)具(ju)材料(liao)將會限制(zhi)(zhi)其(qi)(qi)應用，沉積金剛石(shi)薄膜的過程中通(tong)過控(kong)制(zhi)(zhi)二次形核條件能(neng)夠(gou)得到晶(jing)粒尺寸較(jiao)小的微結晶(jing)金剛石(shi)涂層立銑刀(dao)，其(qi)(qi)刀(dao)具(ju)表(biao)面(mian)粗糙度很小，與普通(tong)金剛石(shi)涂層相比較(jiao)具(ju)有(you)更高(gao)的加工精度和耐磨耐用性(xing)能(neng)，是(shi)加工硅鋁材料(liao)的利器(qi)。